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台積電才喊貴 ASML估High NA EUV製晶片數月內見

世界頂尖半導體生產設備製造商艾司摩爾( ASML )執行長福克今天說,預期幾個月內可看到使用其新一代微影設備高數值孔徑( High NA )極紫外光( EUV )機製造的首批產品問世。路透社報導, ASML 最大客戶台積電4月才表示, High NA EUV 曝光機太過昂貴。這種機器每台價格最高可達4億美元(約新台幣 126 億 6000 萬元)。

ASML重整內部組織架構 將裁減約1700名員工

全球晶片製造設備龍頭艾司摩爾( ASML )今天表示,為了進行內部組織架構的大改組,將裁減約 1700 名員工,主要集中在管理階層的職位。法新社報導, ASML 執行長福克( Christophe Fouquet )在一份向員工發布、宣布變革的聲明中表示:「來自同事、供應商與客戶的回饋顯示,我們目前的工作方式在某些情況下已變得不夠靈活。」

中國副主席韓正訪荷蘭 艾司摩爾禁令成焦點

中國國家副主席韓正今天到訪荷蘭,會見國王與總理。荷媒指出荷中關係兩大痛點:安全機構報告視中國為威脅,以及半導體設備商艾司摩爾對中出口禁令。時值歐洲聯盟外交部長會議 12 日將討論更新中國政策,以及 13 日歐盟與印太地區約 60 位外長會談也將有中國議題,中國副主席韓正與外長秦剛,這幾天也分別走訪歐洲數國。